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高知工科大学 総合研究所 マテリアルズデザインセンター

山本 哲也 教授

低基板ダメージ及び低温金属酸化物薄膜成膜・表面加工

ナノテクノロジー
小間 N-34
プレ 0829-A-17

Kochi University of Technology Professor Tetsuya Yamamoto

Low damage prepration to substrates of and low temperature deposition of metal-oxide thin films together with a state-of-the-art surface modification technology

小間:小間番号   プレ:プレゼンテーション番号

9 産業と技術革新の 基盤をつくろう
出展ゾーン
大学等シーズ展示ゾーン
出展分野
ナノテクノロジー
小間番号
N-34
大学等シーズ展示ショートプレゼンテーション
0829-A-17
2019年8月29日(木)
会場A
12:05 - 12:10

展示概要

技術概要
「低温成膜」及び「低基板ダメージ」は薄膜成膜技術には共通な課題です。効果はエネルギー有効利用、機能の持続性及び信頼性向上です。我々は上記課題解決と共に高速成膜及び大成膜面積なる工業的に必須な要素をも兼備した薄膜成膜装置を提案しています。更に機能自在制御された金属酸化物/窒化物薄膜の実現を可能とさせる負イオン生成・照射技術をも開発継続中です。具体的には極薄膜 (膜厚 5nm) での高ホール移動度金属酸化物薄膜、キャリア密度及び光学屈折率の自在制御、酸素空孔制御による高機能発現などが挙げられます。

想定される活用例
・表面化学活性化による可燃性ガスセンサー
・暗所でも使用可能な抗菌ガラス
・金属の酸化処理・半導体の絶縁化
・低温成膜及び低基板ダメージ成膜を必要不可欠とするプロセスを含む生産ライン

 

展示のみどころ
酸素負イオン生成・照射装置におけるキーテクノロジーや波及効果を図案などで明確化する。応用例として極薄膜高ホール移動度酸化物、その酸化処理効果を一目で理解されましょう。抗菌性材料の技術において、従来と本開発物との設計指針の違いやその抗菌機能機構の理解を深めていただきます。

 

O Engineering

広範囲な応用をもたらす O Engineering / O Engineering for wide applications

Interface

異種材料基板と金属酸化物薄膜との界面構造: 酸化物中間層形成による強固な接着 / Tailored Interface with the formation of intermidiate oxide layer between metal-oxide films and polyer or glass substrates

お問い合わせ先

山本 哲也

メールアドレス:yamamoto.tetsuya@kochi-tech.ac.jp

電話:0887-57-2180   FAX:0887-57-2181  

URL:http://www.ele.kochi-tech.ac.jp/yamateko/index0.html

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