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京都府

株式会社ディーピーエス、株式会社エスエヌジー

「DualPore」で吸脱着性能・触媒性能の高性能、高効率化を実現します

材料・ナノテクノロジー

ミクロンスケール貫通孔&ナノスケール細孔を最適化した二段階孔構造粒子「DualPore」応用製品

小間 J21-NN
プレ n0830_1_1440
実用化支援

小間:小間番号   プレ:プレゼンテーション番号

出展ゾーン
NEDOゾーン
出展分野
材料・ナノテクノロジー
小間番号
J21-NN
プレゼンテーション
n0830_1_1440
2019年8月30日(金)
NEDOプレゼンテーションエリア
14:40 - 14:45

出展概要

製品・技術の名称
高純度多孔質シリカ粒子「DualPore™」

 

展示の概要
ミクロンスケールの貫通孔&ナノスケールの細孔を精緻に最適制御できる高純度多孔質シリカ粒子「DualPore™」
特徴1:DualPoreは“貫通孔+細孔”のデュアルポア=二段階孔構造で、流体が粒子のすみずみまで速やかに灌流し、吸脱着などの性能を高度化します。(パーフュージョン効果)
特徴2:デュアルポア構造なので、従来粒子に比べて粒子径が3倍以上大きくても高性能を発揮します。

 

コアの技術・特許情報
DualPoreは、弊社独自技術の大型シリカモノリスをベースに二段階孔構造を形成させ、破砕・分級・精密整粒技術を経て製造します(※1)。
またDualPoreを応用した用途についても別途特許申請を行っています(※2)。

※1特許4842396・特許4830046
※2特願2015-190878・PCT/JP2016/069309・PCT/JP2017/000327他

 

特徴・ポイント
従来粒子にない非常に高い空隙率と比表面積を誇るDualPoreにより、低圧フロースルーで、サブppm~サブppbまで素早く吸着除去することが出来ます。
メリット1:吸着・脱離の高性能化(根こそぎ吸着・高速処理/再生・必要量低減)
メリット2:カラムに詰めた使用で極低背圧化・大量処理可能
メリット3:粒子ハンドリング良好(容易な装入・ろ過除去・微粉発生低減)

 

ビジネスマッチング希望内容
ユーザー・取扱い商社・事業パートナー・投資を求めています。
用途例:
・ファインケミカル高純度化、医薬品 ICHQ3D対応
・低濃度(〜ppm)未回収貴金属・重金属の吸着除去・再生回収

 

主な実績
医薬品メーカー:今まで低減が困難だった低濃度に残留した触媒を効率的に1ppm以下に除去
鍍金業:廃液の今まで回収しきれなかった貴金属の回収に利用
大学等研究機関:NMR計測時の前処理材として今まで除去が困難だった磁性干渉物質の除去に利用

 

 

DualPoreと従来粒子の比較/Comparison of DualPore structure

DualPore・貫通孔・細孔の電子顕微鏡写真/SEM image of DualPore

関連URL

出展者プロフィール

2013年7月 モノリス技術を応用した製品の研究開発を目的とし、株式会社エスエヌジー設立。
2017年12月 DualPore 粒子技術を応用した製品の製造・販売の特定目的会社として、株式会社ディーピーエスを設立。
2018年5月 株式会社フジミインコーポレーテッドと協業開始

お問い合わせ先

株式会社ディーピーエス

メールアドレス:info@dps-inc.co.jp

電話:075-393-5843  

URL:https://www.dps-inc.co.jp/

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